mi2-factory
Innovative Energiefilter-Technologie für die präzise Dotierung von SiC-Leistungshalbleitern.
Die mi2-factory GmbH ist auf die Energy-Filtered Ion Implantation (EFII©) spezialisiert, eine neuartige Prozesstechnologie zur Herstellung effizienter Leistungshalbleiter-Mikrochips. Diese Technologie, kombiniert mit der Produktionsmaschine EFITRON©, ermöglicht eine präzise, tiefenverteilte und hochhomogene Dotierung von Siliziumkarbid (SiC). Durch den Einsatz von EFII© können Chiphersteller Kosten senken, die Leistung steigern und innovative Chip-Designs für Anwendungen in Elektromobilität und erneuerbaren Energien realisieren.
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Über die Firma mi2-factory GmbH
Die mi2-factory GmbH ist ein Deep-Tech-Startup aus Jena, das sich auf die Revolutionierung der Fertigung von Leistungshalbleitern konzentriert. Das Herzstück des Angebots ist die Energy-Filtered Ion Implantation (EFII©), eine proprietäre Prozesstechnologie, die in Kombination mit der Produktionsmaschine EFITRON© angeboten wird. EFII© wurde speziell für die Dotierung von Siliziumkarbid (SiC) entwickelt, einem Schlüsselmaterial für die nächste Generation effizienter Leistungsmikrochips. SiC ist entscheidend für technologische Fortschritte in Bereichen wie Windkraft, Photovoltaik und Elektromobilität, doch die herkömmliche Ionenimplantation ist oft ineffizient und nur auf eine Gaußsche Verteilung beschränkt.
Im Gegensatz dazu wandelt der Energy-Filter der mi2-factory einen monoenergetischen Ionenstrahl in ein kontinuierliches Energiespektrum um. Dies ermöglicht eine tiefenverteilte und hochhomogene Dotierung, einschließlich sogenannter „Box & Customized Doping Profiles“. Diese innovative Technik revolutioniert die Chipherstellung, da sie herkömmliche, komplexe und zeitaufwändige Ionenimplantationsprozesse überflüssig macht. Kunden profitieren von kürzeren Prozesszeiten, höherem Wafer-Durchsatz und einer exzellenten Reproduzierbarkeit von Wafer zu Wafer. Dies führt zu erheblichen Kosteneinsparungen von bis zu 50% pro Wafer für spezifische SiC-Leistungskomponenten.
Die Technologie der mi2-factory ermöglicht nicht nur Kostensenkungen, sondern auch Designinnovationen und eine deutliche Leistungssteigerung der Chips. Das Unternehmen hält zahlreiche Patente – über 11 nationale und 25 internationale Patente wurden bereits erteilt. Die Vision ist es, EFII© als Standard-SiC-spezifische industrielle Verarbeitungstechnik zu etablieren, insbesondere für Superjunction-MOS-Transistoren in E-Fahrzeugen und erneuerbaren Energien. Damit leistet mi2-factory einen wesentlichen Beitrag zur Erreichung der Klimaziele durch die Bereitstellung effizienterer Komponenten. Das wachsende interdisziplinäre Team wurde 2016 in Jena gegründet und verfügt über umfangreiche Erfahrung in der Halbleiterindustrie.
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